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        鑄銅雕塑用氨腐蝕銅綠方法

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        鑄銅雕塑用氨腐蝕銅綠可行嗎?

        鑄銅雕塑用氨腐蝕銅綠方法是去除鑄銅雕塑銅銹的方法之一:氨水能腐蝕金屬有三個原因:
          一是金屬與金屬離子存在雙電平衡;
          二是氨分子可以與許多金屬離子形成穩定的配離子;
          三是大氣中含有大量的氧分子。
          具體地說,是由于氨可以與許多金屬離子形成比較穩定的配離 子,所以會使金屬離子與金屬單質之間的標準電極電勢降低,從而使金屬更容易被氧化而發生腐蝕現象。

        (1) 2Cu + O2 + CO2 + H2O === Cu2(OH)2CO3
        (2) 銅生銹離不開氧氣,二氧化碳,水蒸氣!

        氨腐蝕銅綠原理

        氨對鑄銅雕塑腐蝕速度與氨含量有關,氨含量高時,氨蝕發展很快。通過試驗,發現在氨含量大于10~100 mg/L時,有明顯氨蝕現象出現;凝結水氨含量不高(一般約在1 mg/L左右,由給水pH調節上限決定),并且內冷水水質受電導率控制,也不發生氨的濃縮,故往內冷水中補凝結水,一般不會發生氨蝕。當往內冷水補加氨的除鹽水,就可能使氨的含量達10~100 mg/L,所以此時,要對電導率進行嚴格控制,方能避免氨蝕的發生。 

        由于氨能與銅離子形成穩定的銅氨絡合物,加速銅的腐蝕,其實,氨對銅的腐蝕是有條件的,只有當溶解氧存在,同時氨的濃度較大時,才能導致銅的腐蝕;有關資料表明:只有當氨的濃度超過10mg/L時,黃銅的腐蝕速度才有明顯上升。    

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        表面膜破裂學說應力腐蝕機理。 在含氨的介質中,銅和銅合金表面生成“晦暗膜”(tarnish,以Cu2O為主體的氧化物薄膜),而銅合金晶界優先生成此膜?;薨的べ|脆,在拉應力作用下發生破裂。據鈴木等研究,純銅上晦暗膜在晶粒上破裂,黃銅上晦暗膜在晶界上破裂。 膜破裂處,溶液腐蝕晶界;隨后又緩慢地重新生成膜,并沿晶界生長,當新生成的膜成長到一定厚度以后,形變量達到能使晦暗膜破裂的程度,新膜又發生破裂。如此循環往復,造成應力腐蝕破裂。純銅產生穿晶破裂,黃銅產生晶間破裂。破裂是不連續進行的,破裂面應呈階梯狀,斷口呈鋸齒狀條紋(有圖但我不會貼)。 

        銅應力腐蝕破裂的影響因素。 受拉應力的黃銅在淡水、高溫高壓水和蒸汽以及一切含氨(或NH4+)的介質中,都可能發生應力腐蝕破裂。最容易引起銅合金應力腐蝕破裂的是氨和能派生氨(或NH4+)的物質,以及硫化物。即使是微量的氨(幾個ppm)也能使受拉應力的黃銅產生應力腐蝕破裂。水分或濕氣、氧、SO2、CO2和氰等物質都會加速破裂。含鋅量少于20%的黃銅,在自然環境中一般不產生應力腐蝕破裂。含鋅量大于20%的黃銅,含鋅量愈高,應力腐蝕破裂敏感性愈大。

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        黃銅中加入鋁、鎳、錫能減輕應力腐蝕破裂。一般,黃銅件的應力腐蝕破裂都是在只有殘余應力(甚至無負荷)的情況下發生的。冷加工變形的黃銅件,加工后未進行退火的,其殘余應力較大,在上述介質中容易引起應力腐蝕破裂。所以,退火消除應力是防止黃鋼應力腐蝕破裂的最常用的有效措施。

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